Luigi Dalporto, B.A. et al. 2026. Física, Tecnología y Métodos de Dopaje del Silicio en la Fabricación de Componentes Electrónicos Activos. Horizonte Académico. 6, 1 (feb. 2026), 237–249. DOI:https://doi.org/10.70208/3007.8245.v6.n1.338.