LUIGI DALPORTO, Baldo Alberto; MARY, Sabine; GALLUR, Santiago. Física, Tecnología y Métodos de Dopaje del Silicio en la Fabricación de Componentes Electrónicos Activos. Horizonte Académico, [S. l.], v. 6, n. 1, p. 237–249, 2026. DOI: 10.70208/3007.8245.v6.n1.338. Disponível em: https://horizonteacademico.org/index.php/horizonte/article/view/338. Acesso em: 28 ago. 2026.