Luigi Dalporto BA, Mary S, Gallur S. Física, Tecnología y Métodos de Dopaje del Silicio en la Fabricación de Componentes Electrónicos Activos. Horizonte Académico [Internet]. 25 de febrero de 2026 [citado 28 de agosto de 2026];6(1):237-49. Disponible en: https://horizonteacademico.org/index.php/horizonte/article/view/338